【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之划痕(膜伤)】: 划痕是指膜面内外有道子,膜内的称划痕,膜外的称膜伤。这也是镀膜品质改善中的一个顽症,虽然很清楚产生的原因和改善方法,但难以。 产生原因: 膜内划痕: 1. 前工程外观不良残留。 2. 各操作过程中的作业过水造成镜片划痕 3. 镜片摆放太密,搬运过程中造成互相磕碰 4. 镜片的摆放器具、包装材料造成镜片表面擦伤 5. 超声波清洗造成的伤痕 膜外伤痕(膜伤): 1. 镜片的摆放器具、包装材料造成的膜伤。 2. 镀后超声波清洗造成的膜伤。 3. 各作业过程作业过失造成的膜伤。 改善对策: 1. 强化作业员作业规范 2. 订立作业过失清单,监督作业员避免作业过失 3. 改善镜片摆放间隔 4. 改善镜片搬运方法 5. 改善摆放器具、包装材料 6. 改善超声波清洗工艺参数 7. 加强前工程检验和镀前检查真空镀膜设备详细镀膜方法。福建奥普光电有真空镀膜设备吗
【真空镀膜真空溅射法】:真空溅射法是物理qi相沉积法中的后起之秀。随着高纯靶材料和高纯气体制备技术的发展,溅射镀膜技术飞速发展,在多元合金薄膜的制备方面显示出独到之处。其原理为:稀薄的空气在异常辉光放电产生的等离子体在电场的作用下,对阴极靶材料表面进行轰击,把靶材料表面的分子、原子、离子及电子等溅射出来,被溅射出来的粒子带有一定的动能,沿一定的方法射向基体表面,在基体表面形成镀层。特点为:镀膜层与基材的结合力强;镀膜层致密、均匀;设备简单,操作方便,容易控制。主要的溅射方法有直流溅射、射频溅射、磁控溅射等。目前应用较多的是磁控溅射法。浙江真空镀膜设备 原材料真空镀膜设备相关资料。
【真空镀膜电阻加热蒸发法】: 电阻加热蒸发法就是采用钨、钼等高熔点金属,做成适当形状的蒸发源,其上装入待蒸发材料,让电流通过,对蒸发材料进行直接加热蒸发,或者把待蒸发材料放入坩锅中进行间接加热蒸发。利用电阻加热器加热蒸发的镀膜设备构造简单、造价便宜、使用可靠,可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜,尤其适用于对膜层质量要求不太高的大批量的生产中。目前在镀铝制品的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。电阻加热方式的缺点是:加热所能达到的Zui高温度有限,加热器的寿命也较短。近年来,为了提高加热器的寿命,国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。
真空镀膜机,顾名思义就是将工件放入真空室中,利用高气压使工件与气体隔绝形成真空状态后进行镀膜的一种工艺。由于这种工艺需要采用特殊的设备才能实现,所以一般用于精密加工行业和电子行业等对产品精度要求较高的场合。真空镀膜冷水机是专门为真空镀膜而设计的制冷设备。它具有结构紧凑、体积小、效率高、噪音低等特点;同时还可以提供多种冷冻水温度供用户选择使用(如常温型、高温型)。下面我们就来了解一下它的工作原理:1、在机组内装有蒸发器及冷凝器各一台;2、当机组启动时压缩空气经压缩机吸入到蒸发器内与水换热产生冷媒蒸汽并汽化吸出热量的同时被冷凝成液体;3、冷却后的冷媒蒸汽进入冷凝器的下端回气管内再次吸收热量变成液态冷媒返回压缩机循环工作。4、经过上述过程之后重新回到蒸发器的上端继续完成一个循环过程,如此往复循环运行达到连续制冷的目的。5、为了保证系统能正常的工作以及延长使用寿命我们建议客户在使用前先对机器内部进行清洗除垢以保证其良好的散热效果和使用寿命!真空镀膜设备厂家排名。
【真空镀膜机常见故障】: 一、 当正在镀膜室真空突然下降 1. 蒸发源水路胶圈损坏(更换胶圈) 2. 坩埚被打穿(更换坩埚) 3. 高压电极密封处被击穿(更换胶圈) 4. 工转动密封处胶圈损坏(更换胶圈) 5. 预阀突然关闭可能是二位五通阀损坏(更换二位五通阀) 6. 高阀突然关闭可能是二位五通阀损坏(更换二位五通阀) 7. 机械泵停机可能是继电器断开(检查继电器是否工作正常) 8. 烘烤引入线电极密封处被击穿(更换胶圈) 9. 挡板动密封处胶圈损坏(更换胶圈) 10. 玻璃观察视镜出现裂纹、炸裂(更换玻璃) 二、长期工作的镀膜机抽真空的时间很长且达不到工作真空、恢复真空、极限真空、保真空: 1. 蒸发室有很多粉尘(应清洗) 2. 扩散泵很久未换油(应清洗换油) 3. 前级泵反压强大太机械泵真空度太低(应清洗换油) 4. 各动密封胶圈损坏(更换胶圈) 5. 由于蒸发室长期温度过高使其各密封胶圈老化(更换胶圈) 6. 蒸发室各引入水路密封处是否有胶圈损坏(更换胶圈) 7. 各引入座螺钉、螺母有无松动现象(重新压紧) 8. 高低预阀是否密封可靠(注油)真空镀膜设备真空四个阶段。云南真空镀膜设备维修
真空镀膜设备是什么?福建奥普光电有真空镀膜设备吗
【真空镀膜真空蒸发镀膜原理】: 真空蒸发法的原理是:在真空条件下,用蒸发源加热蒸发材料,使之蒸发或升华进入气相,气相粒子流直接射向基片上沉积或结晶形成固态薄膜;由于环境是真空,因此,无论是金属还是非金属,在这种情况下蒸发要比常压下容易得多。真空蒸发镀膜是发展较早的镀膜技术,其特点是:设备相对简单,沉积速率快,膜层纯度高,制膜材料及被镀件材料范围很广,镀膜过程可以实现连续化,应用相当guang泛。按蒸发源的不同,主要分为:电阻加热蒸发、电子束蒸发、电弧蒸发和激光蒸发等。福建奥普光电有真空镀膜设备吗